CC 800®/9 HiPIMS

HiPIMS

HiPIMS (High Power Pulse Magnetron Sputtering bzw. High Impact Power Impulse Magnetron Sputtering) ist die Weiterentwicklung des Standard Puls Sputter Prozesses, bei dem eine vergleichsweise bis zu 100fach erhöhte Ionisation erreicht wird.

Dieser Effekt ergibt sich durch sehr hohe Pulsströme bei einer relativ niedrigen mittleren Leistung. Mittels einer HiPIMS - Leistungsversorgung wird die Leistung in Form sehr kurzer Impulse auf die Kathode gebracht. So werden bei mittleren Geräteleistungen Pulsleistungen im MW-Bereich erreicht.

Für das beschichtete Substrat stellt dieses Verfahren einen sehr schonenden Prozess dar.

Die hohen Energieimpulse führen zu sehr hohen Ionisationsraten, mittels derer Abscheidungsraten, Dichte und viele weitere Eigenschaften der Schichtwerkstoffe (wie beispielsweise Haftung, Glätte oder Struktur), im Vergleich zu vielen herkömmlichen Beschichtungsprozessen, deutlich verbessert werden können.

Vorteile auf einen Blick

  • Höchste Abscheideraten
  • Beste Haftung
  • Herausragende Schichtdickenverteilung
  • Skalierbarkeit bis hin zur vollen Produktionscharge
  • Exzellente Performance
  • Mittlere HiPIMS-Kathodenleistungen bis zu 4x10 kW

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